空閑 良壽（くが よしかず）は、日本の化学工学者。室蘭工業大学学長。
略歴 1974年埼玉県立浦和高等学校卒業。1979年東京工業大学工学部化学工学科卒業。1981年東京工業大学大学院工学研究科化学工学専攻修士課程修了、理化学研究所入所。1988年テキサス大学化学工学科博士研究員兼任「学長 空閑 良壽（くが よしかず）」室蘭工業大学「室蘭工業大学」空閑 良壽、東京工業大学より工学博士の学位を取得「スクリーンミルの粉砕操作に関する工学的研究 空閑, 良壽 クガ, ヨシカズ」CiNii。1996年室蘭工業大学助教授。2001年室蘭工業大学教授。2005年日本エアロゾル学会論文賞受賞。2009年室蘭工業大学副学長。2011年国立大学法人室蘭工業大学理事・副学長。2014年日本エアロゾル学会高橋幹二賞受賞「空閑 良壽 クガ ヨシカズ (Kuga Yoshikazu)」researchmap。2015年室蘭工業大学学長「国立大学法人学長（文部科学大臣任命）」文部科学省「室蘭工業大学長に空閑氏再任」NHK。2018年化学工学会優秀論文賞受賞。
注釈
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